光刻领域不是复制所有专利就能做出芯片的。 我估计最关键的技术是不可能向外界透露半点， 专利是要对外公布细节的。
台湾韩国半导体加工一直依靠美国主导的对华封锁。 也就是最先进的设备不准卖给中国。 这种玩意用量不大， 自己搞却是不划算。 可是你不搞人家就封锁， 你一出产品，他们就降价， 你觉得无利可图放弃了研究， 他们再提价。 遇到这种情况私有企业当然是退避三舍。 只有土共这种国家主导的经济社会才能对付这种垄断讹诈。
长春光机所据说EUV技术通过鉴定， 我倒是怀疑是不是13纳米的真EUV还是22纳米的。 因为8年前立项的时候不是13纳米。 另外， 土共的计划是2030年国产化， 真是疯狂。 如果没有国家意志， 谁肯在这个领域投资。
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上微与光刻巨头ASML合作 有利于提升本土技术实力
去年5月，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，专家组对项目任务完成情况予以高度评价，认为该双工件台系统的关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台水平，并一致同意该项目通过验收。
光刻机双工件台系统有什么意义呢？工件台系统是光刻机的重要子系统，工件台系统的运行速度、加速度、系统稳定性和系统的定位建立时间对光刻机的生产精度和效率起着至关重要的作用。过去，光刻机只有一个工作台，所有流程都在一个工作台上完成。双工件台系统的出现，使得光刻机能够在不改变初始速度和加速度的条件下，当一个工作台在进行曝光工作的同时，另外一个工作台可以同时进行曝光之前的预对准工作，这样一来，能使光刻机的生产效率提高大约35%。
在去年年底，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位耗费8年时间，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，形成了一支具有国内领先、国际先进水平的研究队伍，为开展极紫外光刻曝光光学系统的工程研制奠定了坚实的人才与技术基础。根据官方披露的消息，计划在2030年实现EUV光刻机的国产化。
多项举措有利于提升本土技术实力
在今年3月，上海微电子装备（集团）股份有限公司与ASML签署战略合作备忘录。对于这个事情，有一些网友认为，上海微电子要去当“伪军”。但事实未必如此，在过去几年，ASML认为上海微电子的一些技术构成侵权，因而一直在打官司。不过知识产权方面的官司往往比较冗长，比如三星苹果世纪大战，又比如施乐、苹果、微软之间的连环诉讼。加上中国政府也在中间协调，最后ASML不胜其烦，索性就以合作的名义，拿一笔钱，就不打官司了。
为了更好的从中国市场获取利润也是ASML愿意合作的原因之一。由于中国大力扶持半导体产业，国内中芯国际、华力微等晶圆厂都制定了在几年后量产14nm芯片的计划，加上台积电、联电、格罗方德先后赴中国大陆投资建厂，中国半导体产业在几年后会迎来发展的井喷期，对高端光刻机的需求会大幅增加。而这也是ASML愿意和国内单位合作的重要原因——ASML与上海集成电路研发中心合作共建一个半导体光刻人才培训中心想必也是出自这个大背景。
未来，这个培训中心将拥有多款ASML的光刻设备和检测设备，也将逐步对国内半导体行业企业内的光刻工程师开放。这将大幅提高中国集成电路产业在高端和专业技术人才方面的培养力度。这对国内工程师熟悉设备工艺，提升光刻技能与专业知识具有积极的促进作用。
此外，据消息人士披露，上海微电子还订了一批Bumotec机床。Bumotec是瑞士斯达拉格旗下的子品牌，能制造世界顶尖的加工光学仪器的机床，据说比ASML用的德国机床还好点——一般人耳熟能详的那些高端机床，和斯达拉格不是一个世界的，斯达拉格专攻高精尖制造领域的制造设备，所以知道这个公司的人非常少。但名气小不意味着技术就不顶尖。相信随着这批机床的到货，有助于上海微电子攻克65nm光刻机的技术难关。
