上海微电子建造的28纳米光刻机，原计划2021年底建成投入市场，却因检验发现技术不过关，不得不推迟了两年，预计2023年底完成。

那么，到底是什么原因使得这台光刻机技术未过关呢？根据所得信息，答案就两个字：良率。且听下面解释。

在实验室条件下，人们可以大概率造出100%国产化28nm芯片的，但如果放在现实的生产中就有点悬了。良品率问题一直是制约国产半导体设备普及推广的重要因素。

一般而言，良品率保持在80%以上，生产企业才不亏本。但现实是：25%国产化的28nm制程生产线上，良品率就已经掉到了75%，而随着国产化率的提高，良品率也在不断下降，50%国产化的情况下，良品率就已经掉到60%了。【注】

如果在2019年以前，国产化低就低吧，反正光刻机零部件多能从国外购买到。现在不行了。美国西方已基本切断了光刻机零部件的供应链，中国光刻机生产厂家只得提高国产化。而这样一来，如何在高国产化的情况下，将光刻机良率提高到80%以上，是一个棘手的问题。

希望上海微电子能够解决高国产化与高良率的矛盾，顺利推出中国第一台商用28纳米光刻机。

【注】参考文献：https://36kr.com/p/2387804804348161