上海微電子建造的28納米光刻機，原計劃2021年底建成投入市場，卻因檢驗發現技術不過關，不得不推遲了兩年，預計2023年底完成。

那麼，到底是什麼原因使得這台光刻機技術未過關呢？根據所得信息，答案就兩個字：良率。且聽下面解釋。

在實驗室條件下，人們可以大概率造出100%國產化28nm芯片的，但如果放在現實的生產中就有點懸了。良品率問題一直是制約國產半導體設備普及推廣的重要因素。

一般而言，良品率保持在80%以上，生產企業才不虧本。但現實是：25%國產化的28nm製程生產線上，良品率就已經掉到了75%，而隨着國產化率的提高，良品率也在不斷下降，50%國產化的情況下，良品率就已經掉到60%了。【注】

如果在2019年以前，國產化低就低吧，反正光刻機零部件多能從國外購買到。現在不行了。美國西方已基本切斷了光刻機零部件的供應鏈，中國光刻機生產廠家只得提高國產化。而這樣一來，如何在高國產化的情況下，將光刻機良率提高到80%以上，是一個棘手的問題。

希望上海微電子能夠解決高國產化與高良率的矛盾，順利推出中國第一台商用28納米光刻機。

【注】參考文獻：https://36kr.com/p/2387804804348161