ASML的光刻機生意中，用於成熟製程芯片製造（14及14納米以上）的DUV光刻機占營收的50%以上。一直以來，美國禁止中國購買先進製程（14納米以下）的EUV光刻機。最近幾年，美國更開始禁止ASML出售能夠實施14納米製程的DUV給中國，說不定下一步會禁售28納米級的DUV。
在這種情況下，ASML有兩個害怕，一個是短期的，一個是長遠的。
中國在無法從海外獲得14納米級別的DUV的情況下，早就開始研發自產的28/14納米光刻機。到現在，上海微電子已十分接近研製成功商用28納米DUV，據說2023年底將完成第一台的生產。此光刻機一旦成功量產，加上國家政策扶持，中國將會大量削減對ASML關於同類光刻機的訂單。到時哪怕美國解禁也沒有用，中國政府為了扶持自主產業，肯定會設置進口條例（障礙），於是ASML將失去20%以上的DUV光刻機生意。
但這才剛開始。在量產28納米光刻機後，中國將再接再厲，努力在幾年內打造出商業14納米光刻機。如果這一光刻機如期量產，ASML的DUV生意將會失去半壁江山。這是ASML的第一個害怕：害怕在不久的將來失去中國的DUV生意，也害怕中國以白菜價在世界傾銷成熟製程光刻機。
事情到這並沒有完。在攻克了14納米光刻機後，在大幅度提升了精密製造與複雜系統集成水平的基礎上，中國將更有信心研發出EUV與其他類型的先進製程的芯片製造機器。雖然這一過程會比較長（20-30年），但中國將在半導體產業中慢慢擺脫對西方技術的依賴，而西方高端光刻機生意很可能也永遠失去中國這個潛在的顧客。這是ASML的第二個害怕：害怕中國在30年後不再購買其高端光刻機，並成為光刻機產業的強勁對手。
