中國實現65nm國產光刻機量產，可制造28nm芯片。那國產光刻機問世究竟意味着什麼呢，美國還能對中國卡脖子嗎？

1.     國產光刻機的意義

2024年9月2日，工信部發布的重大技術裝備目錄里，兩台光刻機吸引了人們的視線，其中的氟化氬光刻機作為乾式DUV光刻機，分辨率為65nm、套刻精度達8nm，可以支持28nm節點芯片的製造。我們需要知道的是，節點的大小直接影響到芯片的集成度、性能、功耗以及製造成本，也就是說芯片的節點尺寸越小，集成的晶體管也就越多，從而實現芯片的性能提高和功耗降低。

可能很多人不太了解28nm節點對我國的意義，那這里就需要來解釋一下了，28nm被認為是高性能芯片的起點，是先進製程與成熟製程的分水嶺，既能用於高性能處理器，還可以滿足互聯網、汽車電子等領域的需求。

畢竟我國對於高性能芯片的需求一直在持續增長，僅2023年一年，我國就進口芯片金額達3500億美元，進口光刻機數量為225台，金額超87億美元，並且根據海關總署數據顯示，2024年前七個月，中國的芯片進口總量達到了3081億片，價值約2120億美元。

如今，國產光刻機的誕生，不僅意味着我國能生產高性能芯片，還能減少高性能芯片和光刻機的對外依賴程度。那可能還有人疑惑了，明明全球著名的光刻機公司是荷蘭阿斯麥，為何美國還能制霸芯片行業卡中國脖子呢？

2.     為何美國能制霸芯片行業

眾所周知，光刻機設備常年被荷蘭的阿斯麥公司壟斷，占據了全球90%以上的市場份額，剩下的則是被日本的尼康、佳能所占據，更高端的EUV光刻機則是被阿斯麥完全壟斷，一台售價達到了10億人民幣，美國能制霸芯片行業當然也是和阿斯麥有關係。

在上世紀九十年代，英特爾、尼康、佳能生產的光刻機，都被卡在了波長193nm上沒能更進一步，而這時阿斯麥卻投機取巧，決定將技術從乾式法轉向濕刻法，將193nm的波長直接降低到了132nm，雖然沒能讓阿斯麥一騎絕塵，但也在不少半導體公司中脫穎而出。

直到1997年，美國能源部和英特爾成立了EUV聯盟，就是為了搞定EUV光刻技術，美國甚至還動用了，曾經參與研發核武器的三大國家實驗室，阿斯麥為了能獲得技術扶持，同意在美國建造一家工廠和研發中心滿足本地需求，還保證55%的零部件從美國供應商采購，並接受定期審查。這也是為何阿斯麥光刻機零部件來源國眾多，就比如光源和控制軟件來自美國，超精密機械及蔡司鏡頭來自德國等等，也正因此阿斯麥也成為了美國的“提線木偶”，美國也能禁止光刻機出口中國。

如今，新型國產光刻機成功誕生，雖然其性能相當於第四代光刻機，但這只是我國從0到1的突破，之後從1到100的那段路，我國向來是飛速發展。就比如2007年美國曾揚言中國想要生產艦載機需要100年，結果只用了5年，我國的殲15就已橫空出世，光刻機同樣也是如此，屆時美國再想卡中國脖子那就是痴人說夢了。