清華大學研究的SSMB EUV光源系統用於DUV光刻機?

仝天
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楣果已經證實中國已經具有了5納米，3納米，2納米，1.4納米光刻的能力，也就是說，EUV卡脖子的光刻問題，共軍已經解決了，華為說2031年將推出等效1.4納米的芯片，不可能是空隙來風。

楣果0.7納米的試驗成功，亦不是空隙來分，楣果說5年之後開始量產，華為1.4納米2031年量產，亦是5年時間。

為何現在還沒法量產，主要是現在還處於試驗階段，還有蝕刻封裝還沒有解決。

華為在深圳組裝了一台EUV光刻機原型機，這台機器用處不大，主要用於驗證。

ASML聲稱沒有賣EUV光刻機給中國大陸，為何共軍此時具有了EUV的能力，我的分析是，共軍將EUV光源系統用在了DUV系統之上，這種操作，在理論上是沒有問題的。

清華早已試驗出了SSMB EUV光源，也就是說，共軍已經解決了EUV光源問題，稍微變通一下就有了EUV的光源系統，將這種光源安裝到DUV光刻機之上，理論上亦能夠製造5納米，3納米，2納米，1.4納米的芯片，華為女士信誓旦旦地聲稱2031年光刻等效1.4納米的芯片不是隨便說說，而是華為已經試驗成功了，只等送入工廠量產。

鑑於吾之論談價值五百五十五億歐元，豬尾認為吾發神經，吾認為豬尾發魔金，所以，呼籲習總火速給吾送來支付系統或存款，拖拖拉拉，想賴賬，過河拆橋，等等這都不是習的風格。