ASML的光刻机生意中，用于成熟制程芯片制造（14及14纳米以上）的DUV光刻机占营收的50%以上。一直以来，美国禁止中国购买先进制程（14纳米以下）的EUV光刻机。最近几年，美国更开始禁止ASML出售能够实施14纳米制程的DUV给中国，说不定下一步会禁售28纳米级的DUV。
在这种情况下，ASML有两个害怕，一个是短期的，一个是长远的。
中国在无法从海外获得14纳米级别的DUV的情况下，早就开始研发自产的28/14纳米光刻机。到现在，上海微电子已十分接近研制成功商用28纳米DUV，据说2023年底将完成第一台的生产。此光刻机一旦成功量产，加上国家政策扶持，中国将会大量削减对ASML关于同类光刻机的订单。到时哪怕美国解禁也没有用，中国政府为了扶持自主产业，肯定会设置进口条例（障碍），于是ASML将失去20%以上的DUV光刻机生意。
但这才刚开始。在量产28纳米光刻机后，中国将再接再厉，努力在几年内打造出商业14纳米光刻机。如果这一光刻机如期量产，ASML的DUV生意将会失去半壁江山。这是ASML的第一个害怕：害怕在不久的将来失去中国的DUV生意，也害怕中国以白菜价在世界倾销成熟制程光刻机。
事情到这并没有完。在攻克了14纳米光刻机后，在大幅度提升了精密制造与复杂系统集成水平的基础上，中国将更有信心研发出EUV与其他类型的先进制程的芯片制造机器。虽然这一过程会比较长（20-30年），但中国将在半导体产业中慢慢摆脱对西方技术的依赖，而西方高端光刻机生意很可能也永远失去中国这个潜在的顾客。这是ASML的第二个害怕：害怕中国在30年后不再购买其高端光刻机，并成为光刻机产业的强劲对手。
