清华大学研究的SSMB EUV光源系统用于DUV光刻机?

仝天
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楣果已经证实中国已经具有了5纳米，3纳米，2纳米，1.4纳米光刻的能力，也就是说，EUV卡脖子的光刻问题，共军已经解决了，华为说2031年将推出等效1.4纳米的芯片，不可能是空隙来风。

楣果0.7纳米的试验成功，亦不是空隙来分，楣果说5年之后开始量产，华为1.4纳米2031年量产，亦是5年时间。

为何现在还没法量产，主要是现在还处于试验阶段，还有蚀刻封装还没有解决。

华为在深圳组装了一台EUV光刻机原型机，这台机器用处不大，主要用于验证。

ASML声称没有卖EUV光刻机给中国大陆，为何共军此时具有了EUV的能力，我的分析是，共军将EUV光源系统用在了DUV系统之上，这种操作，在理论上是没有问题的。

清华早已试验出了SSMB EUV光源，也就是说，共军已经解决了EUV光源问题，稍微变通一下就有了EUV的光源系统，将这种光源安装到DUV光刻机之上，理论上亦能够制造5纳米，3纳米，2纳米，1.4纳米的芯片，华为女士信誓旦旦地声称2031年光刻等效1.4纳米的芯片不是随便说说，而是华为已经试验成功了，只等送入工厂量产。

鉴于吾之论谈价值五百五十五亿欧元，猪尾认为吾发神经，吾认为猪尾发魔金，所以，呼吁习总火速给吾送来支付系统或存款，拖拖拉拉，想赖账，过河拆桥，等等这都不是习的风格。