海外认为中国大陆自己生产的光刻机只能生产28纳米芯片，错了

仝天
lll1717iii@yahoo.com

为何我说错了呢?，这首台首套光刻机一问世，一重暴光就能够光刻7纳米而不是28纳米，当然亦可用来生产28纳米芯片。

后来，经过东厂公安，西厂国安和锦衣卫重重审核之后，修改了这首台首套光刻机的一些参数，降低到分辨率为≤65nm，套刻精度≤8nm。

我在之前的论谈这样说过，中国人喜欢藏拙，喜欢留一手，就是这个道理。

但是，工信部列出来的参数表述也没有错，错就错在这个小于，到底小于多少，这就没有底了。

实际上这台光刻机公布出来的参数，小于荷兰ASML光刻机型号DUV 2100i和2050i所公布的参数，与EUV 3400C的参数相当，如果经过重复暴光，就能够生产2纳米甚至1纳米芯片。

所以，工信部为此特别强调: 首台光刻机定义为"重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全"，诸位看参数去了，漏掉了这句话，这句话就彻底暴露了这首台光刻机的真实面目。

当然，现在大陆高端芯片，仍然在使用魔改了的ASML DUV光刻机生产7纳米或以下的芯片。

海外反共人士对中共能够制造出能生产7纳米芯片的光刻机表示怀疑，不错，怀疑也有道理，但是，道理到了我这里，我认为大陆小粉红说的也有道理，他们的道理就是，中共内部自己还没有公布这台光刻机的性能和参数，因小红纷的过度热情而暴露了中共光刻机的真实性能和面目，所以，中共东厂西厂锦衣卫，只好来个出口转内销，降低小红粉的这种热情，免得他们的爱国热情而泄露了国家机密，这就是东厂西厂和锦衣卫头痛的事了。

诸位，我都说了28纳米/4=7纳米，7纳米/4=1.75纳米，相当于2纳米，如果大陆解决了光源问题，那么，做出1纳米的芯片亦是有可能的。

所以，我一直在等待诸位将四十四亿欧元论谈费支付给我，这才是关键，收到钱之后，我就继续论谈光刻或激光光源原理，或凡人炼丹术，或天罡阵法等等。