重複光刻，將精度提高到7納米。這已經達到了現有DUV光刻機工程上所能做到的極限，不可能再突破7納米了，而且因為良品率低，成本很高。所以華為的新手機產量非常有限，做不大的。做一台賠一台。但從9月1日開始，艾司摩爾的DUV受到額外的出口管控限制，中國將更難獲得最佳DUV技術。若中芯國際拿不到維持芯片生產所需的零件和服務，現有的DUV系統可能也會崩潰。

咱們接下來看看是否如此。