重复光刻，将精度提高到7纳米。这已经达到了现有DUV光刻机工程上所能做到的极限，不可能再突破7纳米了，而且因为良品率低，成本很高。所以华为的新手机产量非常有限，做不大的。做一台赔一台。但从9月1日开始，艾司摩尔的DUV受到额外的出口管控限制，中国将更难获得最佳DUV技术。若中芯国际拿不到维持芯片生产所需的零件和服务，现有的DUV系统可能也会崩溃。

咱们接下来看看是否如此。