十四神器原理我論談的太多了，現在講講光的放大縮小原理

仝天
lll1717iii@yahoo.com

如今激光，被大量用於芯片光刻領域。

華為最先進的芯片升騰(Ascend)910D，相當於英偉達(NVIDIA)H100，比起英偉達最先進的芯片H200，Blackwell B200，還差了一代。

華為的910D芯片採用5nm工藝製程，由中芯國際代工，而英偉達的芯片H200，Blackwell B200採用3納米工藝製程，由台積電代工，雙方相差一代，已經追的很近了。

上述兩種芯片，被廣泛用於AI，大陸的DeepSeek已經在使用華為的升騰芯片。

據說華為根據我的十四神器原理正在布局3納米2納米甚至1納米生產線，而台積電亦開始2納米製程工藝生產。

當然，若華為領悟了芯片設計工具EDA三個字的含義，那麼，EDA工具設計，芯片設計，製造，或生產3納米2納米甚至1納米芯片，不在話下。

EDA的，A，兩條斜線倒過來就是V，V加一橫就是倒過來的A。

光沿着A的兩條斜線運動，假如能夠刻錄7納米，若那"一"橫拉長，向上就是聚焦縮小，能光刻5納米，3納米，2納米，甚至1納米，光向下，則發散放大。

當然，光刻的光線是與A倒過來的，光線聚焦形狀相當於V，V斜線角度的大小，決定着光刻度的大小，這就涉及到了透鏡的材料，折射率，折射角度等工藝問題了。

所以，想要生產3納米2納米1納米芯片，亦可從透鏡的材料等方面進行科學研究和物理試驗。

我在大師南佛數學系物理系所學的高等代數，高等幾何，光學，電子電路等知識，如今早已退還給了老師，所以，EDA工具的具體設計，我只知道原理，不知道具體設計技術。

原理懂了，設計EDA工具，或設計芯片，那就容易多了。

而我告訴諸位EDA工具，或英語CHIP棋譜，芬蘭語SIRU思路，中文芯片的設計原理就是: 色不異空，空不異色，色即是空，空即是色，受，想，行，識，亦復如是。

所以，希望習總李總張又俠副主席儘快將五十五億歐元銀行卡送給我。