大陸抱怨在光刻機領域與西方有二十年差距而吾之原理縮小這個差距

仝天
lll1717iii@yahoo.com

甚至使用吾之原理能夠在及短的時間內超越西方或領先西方三年亦是可能的。

吾在上述論談上，提到三個方面，三色版光源，中神通光刻，立體EDA編譯，即移E動三D芯片設計在Z軸線上進行N次縮小或放大，整個過程，若悟通，所光刻出來的芯片即使是90納米或28納米光刻機光刻的芯片，亦等效0.7納米芯片甚至遠超。

而且，使用西方EUV光刻出來的芯片都是單一時+空+質，想要運行這樣的芯片，非常耗電，其次會導致芯片設計過度複雜，沒法設計出AGI，即通用人工智能，所謂"通"，即連"通"，在一塊單一平面芯片上，即使生產出0.7nm的芯片，亦沒法順暢連通，因為這樣的平面芯片太複製了，而使用吾之原理，設計和光刻出來的芯片，其連通過程就是在不同的時空質裡面進行信息穿越連"通"。

而使用吾之原理或論談設計出來的芯片，簡單易懂，易操作，損電，降熱等等，百分之百符合AGI和ASI的要求，而且，光刻這樣的芯片，以大陸自己如今設計或生產出來的光刻機就能夠達到或生產出高性能的AGI或ASI芯片。

所謂"通"用，另一個要求就是跨學科使用，豬尾肉人自己所定義的學科專有名詞限定了肉人的思維或想象能力，這就是隔行如隔山，而使用吾之論談設計出來的AGI或ASI卻能夠徹底解決這個問題，想要解決AGI的問題，走吾論談之路就是捷徑，牛皮不是吹的，火車不是推的，所以，希望習總火速將論談費支付系統給吾送來或郵寄過來。