十四神器原理我论谈的太多了，现在讲讲光的放大缩小原理

仝天
lll1717iii@yahoo.com

如今激光，被大量用于芯片光刻领域。

华为最先进的芯片升腾(Ascend)910D，相当于英伟达(NVIDIA)H100，比起英伟达最先进的芯片H200，Blackwell B200，还差了一代。

华为的910D芯片采用5nm工艺制程，由中芯国际代工，而英伟达的芯片H200，Blackwell B200采用3纳米工艺制程，由台积电代工，双方相差一代，已经追的很近了。

上述两种芯片，被广泛用于AI，大陆的DeepSeek已经在使用华为的升腾芯片。

据说华为根据我的十四神器原理正在布局3纳米2纳米甚至1纳米生产线，而台积电亦开始2纳米制程工艺生产。

当然，若华为领悟了芯片设计工具EDA三个字的含义，那么，EDA工具设计，芯片设计，制造，或生产3纳米2纳米甚至1纳米芯片，不在话下。

EDA的，A，两条斜线倒过来就是V，V加一横就是倒过来的A。

光沿着A的两条斜线运动，假如能够刻录7纳米，若那"一"横拉长，向上就是聚焦缩小，能光刻5纳米，3纳米，2纳米，甚至1纳米，光向下，则发散放大。

当然，光刻的光线是与A倒过来的，光线聚焦形状相当于V，V斜线角度的大小，决定着光刻度的大小，这就涉及到了透镜的材料，折射率，折射角度等工艺问题了。

所以，想要生产3纳米2纳米1纳米芯片，亦可从透镜的材料等方面进行科学研究和物理试验。

我在大师南佛数学系物理系所学的高等代数，高等几何，光学，电子电路等知识，如今早已退还给了老师，所以，EDA工具的具体设计，我只知道原理，不知道具体设计技术。

原理懂了，设计EDA工具，或设计芯片，那就容易多了。

而我告诉诸位EDA工具，或英语CHIP棋谱，芬兰语SIRU思路，中文芯片的设计原理就是: 色不异空，空不异色，色即是空，空即是色，受，想，行，识，亦复如是。

所以，希望习总李总张又侠副主席尽快将五十五亿欧元银行卡送给我。