面對這樣的軍令狀，我想喝口茅台壓壓驚

帝都感悟                                                             

中科院院長簽軍令狀，要以美國制裁清單當立項科研任務，不惜一切代價拿下航空輪胎、光刻機等卡脖子項目。 

吃過不少喊口號的虧，也早過了聽口號就熱血沸騰的年齡。

以光刻機為例，斗膽提幾點疑惑：

1、早幹嘛去了呢？像光刻機這種，卡脖子不是一天兩天了。中芯國際從ASML訂一台光刻機，三年都拿不到貨。現在才立項，是評估沒這個研發能力，所以沒立項？還是覺得獨家研發，投入產出比太低，不願立項？

2、光刻機這種幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造極限的“藝術品”，就算我們不惜代價，是否就真能研發出來？

3、如果真研發出來了，賣給誰？只為國內需求？如果全球最大的代工廠都不用你的光刻機，那這種不惜代價，是否值得？

4、就算咬牙只為國內市場，如何能保證我們單打獨鬥研製的設備，能跟得上世界的技術更新迭代速度，從而生產出真正能在全球競爭的高性能的芯片？

5、最後一個問題，不惜代價，那意味着必然要付出代價。代價從何而來？或者，誰是代價？ 

之所以提出以上疑問，是基於顯而易見的兩個事實：

1、光刻機是好設備，更是超好的生意，非常賺錢；

2、ASML獨家壟斷光刻機很多年了； 無論從國家博弈戰略、行業生態、市場競爭，沒人會願意接受這種獨家壟斷，包括美國人。之所以接受，大概率是被迫，是因為獨家搞這個，大概率白費。

唯有集中各家所長，集中攻關，眾星捧月，才可能做成。 

這是常識性的理解——而常識，往往都是對的。 

為便於理解，我簡單贅述一下ASML的封王之路。 

上世紀80年代，光刻機市場的王者是GCA與日本尼康。90年代初的時候，對相機和光學造詣頗深的尼康一度占據了光刻機市場60%以上的份額。變化發生在摩爾定律對技術指數化升級的更高要求之後。上百納米時代的光刻機，門檻其實並不高，所以彼時才三十多人的ASML也能進去分一杯羹。一旦要求提高到幾十，乃至十幾納米，上世紀90年代光源波長被卡死在193nm就成了光刻機的死結。

最後結果我們知道了，尼康沉迷於光源干刻法而被淘汰出局，ASML的浸潤式技術路線，突破了這個門檻。荷蘭的ASML成了這個領域的壟斷者，占據了市場80%的市場份額。 尼康的出局與ASML的後來居上，看似技術路線選擇的偶然，實則大謬。

事實上，在ASML製造出第一台浸潤式光刻機的第二年，實力雄厚的行業老大尼康就迅疾跟上，造出了質量不相上下的浸潤式光刻機。 問題在後勁，在全產業鏈能力。EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，光學系統複雜到令人崩潰，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。別說是日本與荷蘭，就算是美國，想要一己之力自主突破這項技術，也是痴人說夢。

ASML背後，是英特爾1997年牽頭攢起的一個叫EUV LLC的聯盟，這個聯盟包括了彼時最牛掰的科技公司摩托羅拉、AMD、IBM，後來的三星，台積電，以及美國能源部三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。6年時間裡，EUV LLC的研發人員發表了數百篇論文，大幅推進了EUV技術的研究進展。2009年，美國又送給阿斯麥一份大禮：美國Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源，直接供應ASML——這是光刻機的核心零件，這樣頂尖的技術，全球範圍也不超過三家。 當下ASML的光刻機，光源設備來自美國、蔡司鏡頭來自德國，光學技術由日本提供，製程技術則是台積電和三星支持。毫不誇張的說，阿斯麥雖是一家荷蘭企業，但崛起的背後，其實是一場地地道道的美國牽頭、全球合作式成功。惟其如此，它才能喊出“如果我們交不出EUV，摩爾定律就會從此停止”。 

事實上，英特爾為了防止核心設備供應商一家獨大，其實一直還在挺尼康並採購其設備。但單打獨鬥、自研為主的尼康，什麼零件都能做，但又總是差點意思，稼動率最多只能達到50%左右，連大陸的芯片代工廠都看不上，生產出的設備，只能賣給三星、LG、京東方用來生產面板。曾經的霸主尼康，自此徹底零落在歷史的塵埃之中。

殷鑑於前，面對這樣的軍令狀，茅台放哪了？來一口，壓壓驚！