今年的八、九月註定是中國歷史上的激情歲月，因為華為和雅萬高鐵在海內外比翼雙飛，讓國人揚眉吐氣。只是，雖然國人揚了眉吐了氣，但靜下心來想想，發現雖然美國覺得驚訝，但對華為的制裁卻絲毫沒有放鬆，為什麼？因為中國的EUV光刻機還沒有研製成功。只要中國沒有EUV，華為設計得再好也造不出來。
華為的5G手機所需的麒麟9000S芯片是通過中芯國際DUV光刻機的N+2工藝製造出來的，DUV的N+2工藝工藝極其複雜，難度極大，幾乎達到了DUV光刻機製作芯片的工藝極限，若是想在DUV範疇更進一步做N+3，真是難上加難，芯片良率很低，難以量產。現在華為期待的就是EUV光刻機，可以說，不僅僅華為關注着中國的EUV光刻機，全世界的華人都在關注。
我們知道，EUV光刻機的三大組件是EUV光源系統、高精度弧形反射鏡系統和超高精度真空雙工作檯。其中光源系統已經由哈工大攻克並獲得2022年的中國光學領域的最高獎。雙工作檯也問題不大，因為上海微電子已經宣布DUV光刻機已經試製成功，年底可以投入使用。說明雙工作檯基本上過關了。現在問題主要集中在反射鏡系統。
中國的光學領域的龍頭老大是中科院長春光學精密機械和物理研究所。於是我很在意長春光機所這兩年在幹什麼。經過網上搜索可以看到：他們研究出TDICMOS圖像傳感器綜合性能評測技術獲得吉林省技術發明二等獎，這是EUV光刻機上圖像成像的必備技術。還有，超高精度光刻機投影物鏡系統波像差檢測技術，也是吉林省技術發明二等獎。最重要的是EUV光刻光學技術，獲得吉林省科技進步一等獎。再有，EUV光刻機多層膜光學元件表明污染防控及無損清洗關鍵技術，這獲得吉林省科技進步二等獎。我搞不懂吉林省是怎麼評的，其實這幾個項目在我看來全部都應該是特等獎，現在應該重獎他們，儘可能的激發科研人員的鑽研激情才對。
長春光機所的這些獎項說明了中國的EUV已經組裝好了樣機，但在試驗過程中發現了不少問題，而每個問題得到解決，就得獎了。如此看來，中國的EUV光刻機正在朝着成功邁進。
如果說華為Mate 60 Pro 5G手機讓美國人驚訝，那只是開始，大體上只是驚得牙床發麻；而當國產EUV光刻機亮相的時候，美國人和ASML那才叫驚掉了下巴。
