光刻領域不是複製所有專利就能做出芯片的。 我估計最關鍵的技術是不可能向外界透露半點， 專利是要對外公布細節的。

台灣韓國半導體加工一直依靠美國主導的對華封鎖。 也就是最先進的設備不准賣給中國。 這種玩意用量不大， 自己搞卻是不划算。 可是你不搞人家就封鎖， 你一出產品，他們就降價， 你覺得無利可圖放棄了研究， 他們再提價。 遇到這種情況私有企業當然是退避三舍。 只有土共這種國家主導的經濟社會才能對付這種壟斷訛詐。

長春光機所據說EUV技術通過鑑定， 我倒是懷疑是不是13納米的真EUV還是22納米的。 因為8年前立項的時候不是13納米。 另外， 土共的計劃是2030年國產化， 真是瘋狂。 如果沒有國家意志， 誰肯在這個領域投資。

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上微與光刻巨頭ASML合作 有利於提升本土技術實力

去年5月，清華大學召開了“光刻機雙工件台系統樣機研發”項目驗收會，專家組對項目任務完成情況予以高度評價，認為該雙工件台系統的關鍵技術指標已達到國際同類光刻機雙工件台水平，並一致同意該項目通過驗收。

光刻機雙工件台系統有什麼意義呢？工件台系統是光刻機的重要子系統，工件台系統的運行速度、加速度、系統穩定性和系統的定位建立時間對光刻機的生產精度和效率起着至關重要的作用。過去，光刻機只有一個工作檯，所有流程都在一個工作檯上完成。雙工件台系統的出現，使得光刻機能夠在不改變初始速度和加速度的條件下，當一個工作檯在進行曝光工作的同時，另外一個工作檯可以同時進行曝光之前的預對準工作，這樣一來，能使光刻機的生產效率提高大約35%。

在去年年底，由長春光機所牽頭承擔的國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻關鍵技術研究”項目順利完成驗收前現場測試。在長春光機所、成都光電所、上海光機所、中科院微電子所、北京理工大學、哈爾濱工業大學、華中科技大學等參研單位耗費8年時間，突破了現階段制約我國極紫外光刻發展的核心光學技術，初步建立了適應於極紫外光刻曝光光學系統研製的加工、檢測、鍍膜和系統集成平台，形成了一支具有國內領先、國際先進水平的研究隊伍，為開展極紫外光刻曝光光學系統的工程研製奠定了堅實的人才與技術基礎。根據官方披露的消息，計劃在2030年實現EUV光刻機的國產化。

多項舉措有利於提升本土技術實力

在今年3月，上海微電子裝備（集團）股份有限公司與ASML簽署戰略合作備忘錄。對於這個事情，有一些網友認為，上海微電子要去當“偽軍”。但事實未必如此，在過去幾年，ASML認為上海微電子的一些技術構成侵權，因而一直在打官司。不過知識產權方面的官司往往比較冗長，比如三星蘋果世紀大戰，又比如施樂、蘋果、微軟之間的連環訴訟。加上中國政府也在中間協調，最後ASML不勝其煩，索性就以合作的名義，拿一筆錢，就不打官司了。

為了更好的從中國市場獲取利潤也是ASML願意合作的原因之一。由於中國大力扶持半導體產業，國內中芯國際、華力微等晶圓廠都制定了在幾年後量產14nm芯片的計劃，加上台積電、聯電、格羅方德先後赴中國大陸投資建廠，中國半導體產業在幾年後會迎來發展的井噴期，對高端光刻機的需求會大幅增加。而這也是ASML願意和國內單位合作的重要原因——ASML與上海集成電路研發中心合作共建一個半導體光刻人才培訓中心想必也是出自這個大背景。

未來，這個培訓中心將擁有多款ASML的光刻設備和檢測設備，也將逐步對國內半導體行業企業內的光刻工程師開放。這將大幅提高中國集成電路產業在高端和專業技術人才方面的培養力度。這對國內工程師熟悉設備工藝，提升光刻技能與專業知識具有積極的促進作用。

此外，據消息人士披露，上海微電子還訂了一批Bumotec機床。Bumotec是瑞士斯達拉格旗下的子品牌，能製造世界頂尖的加工光學儀器的機床，據說比ASML用的德國機床還好點——一般人耳熟能詳的那些高端機床，和斯達拉格不是一個世界的，斯達拉格專攻高精尖製造領域的製造設備，所以知道這個公司的人非常少。但名氣小不意味着技術就不頂尖。相信隨着這批機床的到貨，有助於上海微電子攻克65nm光刻機的技術難關。